Półmaska jednorazowa bez zaworka HONEYWELL 5110 FFP1 NR D – ML

Półmaska jednorazowa HONEYWELL 5110 FFP1 NR D – M/L/ HONEYWELL spełnia normy EN 149 (Sprzęt ochrony układu oddechowego-półmaski filtrujące do ochrony przed cząstkami). Bardzo lekka, kompaktowa o anatomicznym kształcie z dużą pojemnością wewnętrzną, przyjemna w dotyku wykonana z delikatnego materiału. Półmaska odpowiada za ochronę przed szkodliwymi cząsteczkami, pyłami, wirusami. Maseczka o niskim profilu zapewnia doskonałą widoczność i swobodną komunikację. Kształt formowany gwarantuje komfort noszenia. Kolorowa blaszka nosowa pomaga w dopasowaniu i identyfikacji poziomu ochrony. Zastosowana technologia uszczelniania Willtech™ jest miękka, hipoalergiczna, przeciwpotna, chłonna, gwarantuje komfort noszenia. Podwójnie zszywane taśmy nagłowia pomagają w umiejscowieniu maseczki w odpowiednim miejscu. Skuteczna ochrona dróg oddechowych musi być prosta i komfortowa dla każdego użytkownika.

FFP1– stosowane do ochrony przed cząstkami stałymi i ciekłymi o niskiej toksyczności dla których NDS?2mg/m3 o ile maksymalne stężenie wynosi do 4xNDS – skuteczność filtracji 80%

NR– półmaska jednorazowa

D– zwiększona pyłochłonność – spełnia dodatkowe wymogi odporności na zatkanie pyłem dolomitowym

Przykłady zastosowań: ręczna obróbka mechaniczna, budownictwo, rolnictwo, kamieniołomy, przemysł spożywczy, przetwórstwo tworzyw sztucznych.

FFP 2 stosowane do ochrony przed cząstkami stałymi i ciekłymi o niskiej i średniej toksyczności dla których NDS?0,05mg/m3 o ile maksymalne stężenie wynosi do 9xNDS – skuteczność filtracji 94%

NR – półmaska jednorazowa

– zwiększona pyłochłonność – spełnia dodatkowe wymogi odporności na zatkanie pyłem dolomitowym

Przykłady zastosowań: przemysł metalowy, górnictwo, spawanie, laboratoria, malowanie natryskowe, styczność z pleśnią/grzybami, bakteriami, tartaki, sproszkowane środki chemiczne i spożywcze.

logo
Ta strona korzysta z plików cookie, aby poprawić komfort użytkowania. Korzystając z niej, akceptujesz naszą Politykę ochrony danych.
CZYTAJ WIĘCEJ